EVOLUTION DE LA METHODOLOGIE DE CONCEPTION: DFM DFY - PowerPoint PPT Presentation

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EVOLUTION DE LA METHODOLOGIE DE CONCEPTION: DFM DFY

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Le nanom trique impose une volution des m thodologies de conception ... Miniaturasation des boites (BGA, CSP) - R duction des largeurs de pistes et d'isolements ... – PowerPoint PPT presentation

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Title: EVOLUTION DE LA METHODOLOGIE DE CONCEPTION: DFM DFY


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EVOLUTION DE LA METHODOLOGIE DE CONCEPTION DFM -
DFY
ELE6306 - Test de systèmes électroniques
  • Khalil Mouhsine, Jaouad El-Fouladi
  • Professeur Khouas Abdelhakim
  • École Polytechnique Montréal

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Plan
  • Introduction
  • Historique
  • DFM
  • Problématique
  • Définition
  • Solutions
  • DFY
  • Problématique
  • Principes
  • Exemples
  • DFM/DFY
  • Conclusion

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Introduction
  • Evolution des circuits intégrés
  • Le nanométrique impose une évolution des
    méthodologies de conception
  • Partie I
  • Méthodologie de Conception DFM
  • Partie II
  • Méthodologie de Conception DFY
  • Méthodologie de Conception DFM/DFY
  • Conclusions

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Historique
  • Evolution de la technologie de conception

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DFM - Problèmatique
  • Évolution des technologies des cartes
    électroniques
  • Augmentation de la complexité
    fonctionnelle
  • - Des composants (5 millions de portes)
  • - Des cartes (centaines de composants)
  • Augmentation du nombre de fonctions à tester
  • Augmentation de la densité de report
  • - Miniaturasation des boites (BGA, CSP)
  • - Réduction des largeurs de pistes et
    disolements des circuits imprimés, vias entrées
  • Perte daccessibilité physique aux broches de
    composants

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DFM - Problèmatique
  • Problème Majeur après techno lt180nm
  • Lintégrité du signal,
  • Les pertes de puissance, Augmentation EXP(.) des
    courants de fuite
  • Limitations au niveau des jeux de masques.
  • Problème lieé à la fabrication
  • Capacité à réanalyser les Problème de timing,
  • Rajout de vias redondants.
  • Paramètres de fabrication très serrés, nouveaux
    besoins dextraction
  • Phénomènes Physiques
  • Diffraction,
  • Modifient la géométrie,
  • Les dimensions des interconnexions.


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DFM - Problèmatique
  • Variations du process de fabrication
  • Des aspects de la conception
  • Relation entre fabrication et
    conception DFM,

  • DFY, DFM/DFY
  • Incidence sur le test
  • Difficulté daccéder à une couverture de test de
    100
  • Nécessité dintégrer les moyens de test dès la
    conception (DFT, DFM)
  • Augmentation du temps de développement des
    programmes de test (dizaines dhomme mois)

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DFM - Definition
  • DFM Design For Manufacturability
  • DFM et DFT 2 mots de la mode sur le marché EDA
  • DFM est gestion des contraintes de technologie
    appliquées à la conception de circuit.

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Les Methodologies DFM
  • DFM domaine submicron
  • Maximiser la difference entre le cout total et
    revenu total
  • R(t) et C (t) sont des taux de revenu et coût,
  • t1t2 vie du produit, t1, t2 debut, fin de
    fabrication
  • V (t) est une fonction du nombre de morceaux
    circuit,
  • Y (t) est le rendement de fabrication.
  • Nw (t)  le nombre de traiter de wafers,
  • Nch (RW, a, b)  est le nombre de morceaux par
    wafer en fonction des dimensions a et b de
    matrice et du rayon RW de wafer.
  • DFM  maximisation de volume de fabrication
    réalisable pour le coût le plus bas possible
  • objectif de maximiser Productivité de Wafer et
    Taux d'étude de rendement.

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DFM - Solutions
  • Crolle 2000 - Grenoble
  • Projet ST Philips Motorola
    Wafer 300mm
  • Objectifs Cout et Temps
  • La Technologie de conception en 65nm TSMC -
    Cadence
  • Concevoir des SOC en 65nm
  • Réduire le cycle de conception, optimiser le
    succès du circuit,
  • Répondre aux problèmes de fabrication tout au
    long de la chaine de conception
  • Flot de Référence 6.0 de TSMC, permet au Cadence
    de
  • Optimiser et analyser la puissance, augmenter le
    rendement,
  • Co-conception puce-boitier
  • Outils de developpement
  • Calibre LFD (EDA)
  • Developpement au lithographiques (sensibilité,
    variations, . . .)
  • Calibre YieldAnalyser
  • Approche complète de conception en vue dun
    meilleur rendement
  • Identifier les options et améliorer le rendement
  • Outils de Synopsys
  • Solutions danalyse statique de timing PrimeTime
    et dextraction Star-RCXT

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DFY - Problématique
  • Pourquoi la DFY?
  • Coût
  • Time to Market
  • Densité et volume de production
  • Très grand nombre de règle de design
  • Communication entre fonderie, ingénieur de
    conception et producteurs des outils CAO.

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DFY - Problématique
  • Causes
  • Longueur de canal lt 180nm
  • Court circuit entre les métaux de différentes
    couches
  • Cour circuit ou circuit ouvert entre les métaux
    dune même couche
  • Grande densité
  • Transfert de documentation entre la conception
    et la fabrication

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DFY - Principe
  • Participation de la fonderie, des concepteurs de
    circuits intégrés et des concepteurs des outils
    CAO lors de lélaboration des logiciels
  • Utilisation de modèles statistiques pour les
    règles de design au lieu du modèle binaire
  • FeedBack de la fonderie vers lunité de Design
  • Différentes techniques de layout
  • Simulation statistique post-layout

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DFY Courbes de rendements
  • Évolution du rendement

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DFY courbes de rendements
  • Amélioration du time to market
  • Coût liés au développement moins diminués
  • Phase de production de grands volumes atteintes
    rapidement ce qui implique plus de profits
  • Rendement global amélioré

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DFY exemple de son importance
  • Exemple des mémoires sur puces

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DFY Exemple de technique
  • Ajout de redondance
  • Ajout de via pour les connections
  • Ajouts de connections supplémentaires
  • Built-In Self-Repair

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DFY Exemple de technique
  • Règle de design versus Modèle

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Les Methodologies DFM/DFY
  • Cette Methodologies permet
  • Analyser et trouver la meilleure topologie de
    circuit
  • Optimiser les exécutions nominales de circuit et
    accomplir des caractéristiques et des contraintes
    données
  • Maximiser la robustesse de conception et
    rapporter contre les coins de processus et les
    variations statistiques
  • Conception pour fabrication et rendement
    (DFM/DFY).

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Les Methodologies DFM/DFY
  • Setup 1 Préparation du circuit
  • Output
  • - Schéma paramétrisé
  • - Préparation modèle
  • Input
  • Circuit Schematic
  • Modèles de dispositif

- Schematic Device Parameters - Testbench,
Simulation, Configuration - Analyses Setup,
Design Variables
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Les Methodologies DFM/DFY
  • Setup 2 Parameter Setup
  • Output
  • - Circuit Characteristics
  • - Constraints (Sizing Rules)
  • Input
  • Parameterized Schematic
  • Spécifications, Parameters

- Identification automatisée de structure -
Génération automatisée des contraintes -
Conception, Opération, Process, Gestion -
Exécution de circuit, Spécification, Mismatch
setup
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Les Methodologies DFM/DFY
  • Setup 3 Feasibility Optimization
  • Output
  • - Circuit faisable
  • - Contraintes accompli
  • Input
  • - Circuit Impraticable
  • - Contraintes Violés

Constraints fulfilled !
Constraints violated !
- Détection automatisée des contraintes violées
- Analyse et optimisation des contraintes -
Optimisation automatisée de praticabilité
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Les Methodologies DFM/DFY
  • Setup 4 Optimisation Nominal
  • Output
  • - Circuit Nominal Optimisé
  • - Performances Optimisés
  • Input
  • - Circuit faisable
  • - Opérations Conditionnels

Performances dont meet Specifications
Performances meet Specifications
- Exécuter et analyse de sensibilité - Trace des
paramètres de conception - Classement par taille
de circuit
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Les Methodologies DFM/DFY
  • Setup 5 Design Centering (Yield Optimization)
  • Output
  • - Centered Design
  • - Yield Optimized Design
  • Input
  • Nominal Design
  • Process Statistics

Yield gt 99,9 !
Yield too low !
- Monte Carlo Analysis, Amélioration automatique
de rendement - Analyse de distribution et
distances - Inspection des paramètres,
Optimisation des points des pires cas
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Conclusion
  • Importance de la relation entre Conception et
    fabrication
  • Trois acteurs lors de la conception de circuits
    intégrés
  • Fonderie
  • Concepteur des IC
  • Concepteurs des outils EDA
  • Importance des DFM et DFY

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Questions
27
Bibliographies
  • 1- Design for Manufacturability in Submicron
    Domain
  • W. Maly, H. Heineken, J. Khare and P. K. Nag
  • Carnegie Mellon University
  • Electrical and Computer Engineering Dept.
  • Pittsburgh, PA 15213
  • 2- DATE 2006 Special Session
  • DFM/DFY Design for Manufacturability and Yield -
    influence of process
  • variations in digital, analog and mixed-signal
    circuit design
  • Organizers A. Ripp, MunEDA GmbH, Munich, Germany
    andreas.ripp_at_muneda.com,
  • M. Bühler, IBM Deutschland Entwicklung GmbH,
    Böblingen, Germany - buehler_at_de.ibm.com
  • 3- Design for Manufacturability
  • ITC 2003 Roundtable IEEE Design Test of
    Computers
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