Reference Impedance Determination Method - PowerPoint PPT Presentation

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Reference Impedance Determination Method

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Int r t composant universel. faible bruit, puissance, amplification, oscillation, m lange. possibilit d'int gration monolithique ... – PowerPoint PPT presentation

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Title: Reference Impedance Determination Method


1
Evolution des composants actifs micro-ondes
  • Sources hyperfréquences disponibles dans les
    années 60
  • Tubes
  • klystrons
  • magnétrons
  • carcinotrons
  • tubes à ondes progressives
  • Problèmes
  • besoin dune alimentation haute tension
  • poids élevé
  • coût
  • durée de vie
  • Exemple carcinotron CSF
  • f 300 GHz, P 10 mW, Valim 10 000 Volts
  • durée de vie 1000 heures
  • poids plusieurs kg

Source G. Salmer, A. Cappy, E. Constant,
Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Evolution des composants actifs micro-ondes
  • Diodes disponibles dans les années 60
  • Matériaux ? Germanium Eg 0.72 eV
  • ? Silicium Eg 1.12 eV
  • ? GaAs (qualité ??) Eg 1.42 eV
  • Possibilités ? Jonction PN
  • ? Barrière Schottky
  • Applications ? détection
  • ? mélange
  • ? limiteur
  • ? amplificateur paramétrique
  • Problèmes ? structure dipôle
  • ? diodes à pointes ?résistances série parasites

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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Transistor à effet de champ
source
grille
couche active
substrat
?? Applications microondes dans les années 60
?? principe modulation de lépaisseur du canal
en fonction de la tension grille-source Problèmes
? matériau Si ?mauvaise mobilité des
porteurs ?substrat non isolant ?
impossibilité de faire des grilles très
courtes
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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Transistor bipolaire silicium
émetteur
base
base
NDE
Si
Rb
eb
Si
collecteur
  • pour augmenter fT il faut diminuer eb, mais
    alors Rb augmente
  • pour ne pas trop augmenter Rb il faut augmenter
    NAB
  • mais le gain en courant est proportionnel à NDE
    /NAB

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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Composants nouveaux des années  65
Les diodes à transfert électronique (GUNN) Les
diodes IMPATT
suscitent lintérêt
  • Milieux industriels
  • technologies de réalisation aisées
  • insertion et utilisation faciles dans circuits
    micro-ondes
  • Milieux universitaires
  • principes de fonctionnement largement innovants
  • utilisation de phénomènes physiques découverts
    récemment

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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Composants nouveaux des années  65
Les diodes à transfert électronique (GUNN)
anode
Contacts Au
Active layer (GaAs ou InP)
e
cathode
Matériaux ? AsGa ou InP Propriétés ? f en
oscillation souvent proportionnelle à 1/e (10 GHz
si e10 µm) ? fréquence limite de fonctionnement
(150 GHz) limitée par le temps de transfert
intervallée (InP meilleur que GaAs) ? bruit
important Applications ? oscillateur faible
puissance simple et peu coûteux ? radar
Doppler, anticollision, détecteur dintrusion
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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Composants nouveaux des années  65
Diodes à avalanche et temps de transit (IMPATT)
Matériaux ? Si puis AsGa ou InP Propriétés ?
fréquence en 1/e (10 GHz si e 3 µm) ? très
nonlinéaire ? bruit très important Application ?
multiplicateur
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du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Composants nouveaux des années  65
  • 3 raisons
  • manque de performances
  • structure dipole
  • progrès des structures tripoles

Mais grâce aux travaux sur ces composants, la
technologie GaAs a beaucoup progressé
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du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Amélioration du transistor bipolaire en 85
émetteur
base
base
AlGaAs
GaAs
eb
1020 At/cm3
GaAs
collecteur
  • Rappel pour ne pas trop augmenter Rb il faut
    augmenter NAB mais le gain en courant est
    proportionnel à NDE /NAB
  • Idée utiliser pour la base un semiconducteur de
     gap  plus petit que celui de lémettteur, de
    manière à avoir une discontinuité dEv de la bande
    de valence qui induit un gain en courant de la
    forme
  • (NDE/NAB) e(dEv/kT)

Semiconducteurs petits gaps utilisés GaAs
(émetteur AlGas) SiGe (émetteur
Si) GaInAs (émetteur InP)
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Institut d Electronique et de Microélectronique
du Nord (IEMN), Novembre 2001
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Amélioration du transistor à effet de champ (FET)
source
Lg
grille
largeur de grille
drain
couche active
Substrat GaAs
Progrès ? qualité du matériau ? maîtrise du
substrat semi-isolant ? diminution des
longueurs de grille Lg de 1µm à 0.05 µm ?
augmentation du Ft Intérêt ? composant
universel faible bruit, puissance,
amplification, oscillation, mélange ?
possibilité dintégration monolithique
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Amélioration du transistor à effet de champ
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Evolution du facteur de bruit des composants
microondes
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Evolution de la densité de puissance des
composants microondes
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Evolution de la fréquence de coupure des
composants microondes
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