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CARACTERIZA

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Crescimento de Filmes Finos Supercondutores de Alta Temperatura Cr tica por Desbastamento I nico Thiago J. de A. Mori, L cio S. Dorneles Laborat rio de Magnetismo ... – PowerPoint PPT presentation

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Title: CARACTERIZA


1
Crescimento de Filmes Finos Supercondutores de
Alta Temperatura Crítica por Desbastamento
Iônico
Thiago J. de A. Mori, Lúcio S. Dorneles
Laboratório de Magnetismo e Materiais
Magnéticos Departamento de Física Centro de
Ciências Naturais e Exatas Universidade Federal
de Santa Maria 97105-900 Santa Maria RS
Brasil www.ufsm.br/lmmm
2
Objetivos
  • Introduzir os conceitos fundamentais que
    caracterizam o fenômeno da supercondutividade
  • Definir os parâmetros de deposição adequados
    para a formação da fase supercondutora em filmes
    finos de Y-Ba-Cu-O, no novo sistema de deposição
    de filmes finos de óxidos do LMMM / UFSM.

3
Supercondutividade
Condutividade Perfeita
Diamagnetismo Perfeito - Efeito Meissner
Meissner e Ochsenfeld (em 1933)?
Além de os supercondutores excluírem o campo
magnético de seu interior, um campo em uma
amostra inicialmente normal também é expelido
quando ele é resfriado abaixo de Tc
Kammerling Onnes (em 1911)?
4
Supercondutores dos Tipos I e II
Curvas de Magnetização características de
supercondutores (a) do tipo I e (b) do tipo II
5
Deposição por Desbastamento Iônico (Sputtering)?
RESPUTTERING (íons O- e átomos de O)?
Diferença na estequiometria entre filme e alvo
Resputtering
6
Deposição por Desbastamento Iônico (Sputtering)?
  • Maneiras de contornar o problema
  • Trabalhar com pressões tão altas quanto for
    possível
  • Projetar o sistema para que a voltagem e a
    potência no canhão sejam as menores possíveis
  • Posicionar o substrato fora do eixo do
    canhão
  • Magnetron Sputtering com configuração não
    balanceada.

Eom et al. 2 mostraram que foi com uma
geometria fora do eixo e altas pressões foi
possível produzir filmes com estequiometrias
excelentes, e ainda resolveu-se o problema da
inomogeneidade ao longo do filme.
7
Deposição por Desbastamento Iônico (Sputtering)?
8
Estrutura Cristalina
Ortorrômbica OU Tetragonal
Fase Supercondutora 123
9
Estrutura Cristalina
Ortorrômbica OU Tetragonal
Tratamento Térmico (in situ ou ex situ)?
  • Condições para o crescimento da fase 123
  • A deposição deve ocorrer a uma temperatura
    próxima da transição da fase tetragonal para
    supercondutora
  • A cristalização do filme durante a deposição
    precisa ser completa
  • A oxidação durante a deposição e
    resfriamento precisa ser suficiente para resultar
    na estequiometria correta.

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Estrutura Cristalina
  • Substratos
  • As estruturas cristalinas e os coeficientes
    de expansão térmica do filme e do substrato devem
    ser compatíveis
  • O substrato não pode ser reativo
    quimicamente com o HTS
  • A superfície do substrato deve ser polida e
    estável.
  • Substratos Não-Compatíveis precisam ser
    cobertos por uma camada buffer.
  • Bons candidatos para substrato de filmes
    finos de Y-Ba-Cu-O
  • LaAlO3 , SrTiO3 , MgO

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Espessura
  • Em filmes finos (lt 0,5 µm) a temperatura
    crítica e a densidade de corrente crítica são
    menores que em filmes mais grossos.
  • Mesmo filmes com apenas 50 da fase
    supercondutora apresentam a queda brusca em ?(T)?
  • A supercondutividade na fase 123 é
    fortemente anisotrópica e a resistividade é duas
    ordens de grandeza maior ao longo do plano do que
    no eixo c.
  • JC paralela ao plano do filme é da ordem de
    102A/cm2, perpendicular ao plano é da ordem de
    104A/cm2

Resistividade em filmes de Er-Ba-Cu-O
  • Como a espessura é da ordem da célula
    unitária, a rugosidade do substrato sempre
    influencia nas características do filme
    depositado.
  • Na camada superior normalmente se observa a
    formação de ilhas ou então crescimento espiral.

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Proposta de Trabalho
  • Construir um porta-substratos adequado
  • Que proporcione o crescimento de filmes
    finos na geometria fora do eixo
  • Sistema de aquecimento e controle de
    temperatura.
  • Determinar os parâmetros necessários para o
    crescimento de filmes finos de óxidos com os
    equipamentos disponíveis no LMMM, com o objetivo
    de obter um filme fino.

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Referências Bibliográficas
1 M. Leskelä, J. K. Truman et al., J. Vac. Sci.
Technol. A 7, 3147 (1989). 2 C. B. Eom, J. Z.
Sun, B. M. Lairson et al., Physica C 171, 354
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Prog. Phys. 60, 1673 (1997). 4 N. Savvides and
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(1992). 5 C. B. Eom, J. Z. Sun, K. Yamamoto et
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(1996). 11 MAROUCHKINE, A. Room-Temperature
Superconductivity. 1a. ed. Cambridge
International Science Publishing, 2004. 12
TINKHAM, M. Introduction to Superconductivity.
2a. ed. Dover Books on Physics, 2004.
  • Trabalho financiado com recursos
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